Engineer's Journal

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露光装置の進化とトランジスタ構造の進化

ICのプロセスノードは露光装置の性能で決まります。
g線、i線、KrF、ArF等々…精度によっていろいろあるみたいです。

KrFあたりは微細プロセスでもよく使われています。インプラ系の工程は比較的ラフな規格でいけるので。ACTとかポリシリコン、配線あたりがガチガチに厳しい規格になるので、ここらへんを高精度な露光機で露光するようになります。

で、当然マスク代も露光機の装置代も、厳しい規格のものになればなるほど高価です。逆に言えば、売る側からすれば厳しい規格のものほど利益率が高いです。

今年2月の記事ですが、最近またちょっと興味が出てきたので。

ASMLがいくら頑張っても目途が立たないEUVよりも、低コストで装置を作れるナノインプリントに注目したところが面白いです。もはやキヤノンなんて露光機メーカーってイメージ全然ないですけど、一気に流れを引き寄せた感がありますね。これからこの流れをモノにできるかどうか、見ものです。